PECVD设备 CC-200
|
品 牌：
|
|
|
单 价：
|
面议面议
|
|
最小起订：
|
|
|
发货期限：
|
自买家付款之日起 3起 天内发货
|
|
所 在 地：
|
山东省 青岛 |
|
供货总量：
|
|
|
有效期至：
|
长期有效 |
|
联系我时，请提及在百方网看到，会有优惠。
|
产品详细说明
产品简介：
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。
产品特性：
• 27.12MHz高密度等离子制程
• SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可对应SiO2膜
• 以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能
• 可对应有机EL（OLED）的低温成膜用heater
• 使用Tray可搬送多种基板尺寸
• 通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）
产品应用：
• 功率器件
• LED、LD、高速device等化合物相关
• 有机EL（OLED）开发
• 太阳电池开发
免责声明：以上所展示PECVD设备 CC-200的信息由自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责。百方网建议优先选择由中国电器供应商提供的PECVD设备 CC-200
您还没有登录，请登录后查看联系方式
发布供求信息
推广企业产品
建立企业商铺
在线洽谈生意
会员中心
