| 品 牌： | KRI |
| 单 价： | 面议面议 |
| 最小起订： | 1 台 |
| 发货期限： | 自买家付款之日起 60起 天内发货 |
| 所 在 地： | 上海市 上海 |
| 供货总量： | 1000 台 |
| 有效期至： | 长期有效 |
| 联系我时，请提及在百方网看到，会有优惠。 | |
您还没有登录，请登录后查看联系方式 发布供求信息 |
 推广企业产品 |
 建立企业商铺 |
 在线洽谈生意 |
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 离子束可聚焦, 平行, 散射.
离子束流: >600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀工艺.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:
型号 | RFICP 140 |
Discharge | RFICP 射频 |
离子束流 | >600 mA |
离子动能 | 100-1200 V |
栅极直径 | 14 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 5-30 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 | < 0.5m Torr |
长度 | 24.6 cm |
直径 | 24.6 cm |
中和器 | LFN 2000 |
伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域：
1.预清洗
2.表面改性
3.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
4.溅镀和蒸发镀膜 PC
5.离子溅射沉积和多层结构 IBSD
6.离子蚀刻 IBE
http://www.hakuto-china.cn/faq_d.php?fd=241
会员中心
